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鉑電極研究進(jìn)展

鉑電極是通過適當(dāng)?shù)墓に噷K復(fù)合在鈦、鉭、鈮等基體上。介紹了鉑電極的主要應(yīng)用領(lǐng)域。水溶液電鍍和冶金復(fù)合是目前最常用的制備鉑復(fù)合電極的方法。此外,鉑電極復(fù)合方法還有熔鹽電鍍,磁控濺射,化學(xué)氣相沉積等,指出了各種方法的優(yōu)缺點(diǎn)及發(fā)展方向。鉑電極強(qiáng)度高,耐腐蝕性、導(dǎo)電性好,催化活性高,主要應(yīng)用于陰極保護(hù)、電析金屬、離子水制備等領(lǐng)域中.

鉑具有優(yōu)良的耐蝕性、導(dǎo)電性和催化活性,是一種理想的不溶性電極,但純鉑的機(jī)械強(qiáng)度低,容易變形,而且價(jià)格昂貴,在工業(yè)上直接使用經(jīng)濟(jì)上不合算為改善鉑電極的性能,并且考慮經(jīng)濟(jì)因素,科研工作者對(duì)鉑復(fù)合電極作了大量研究。鉑復(fù)合電極就是將鉑通過適當(dāng)?shù)墓に噺?fù)合在某種基體上?;w的選擇也做過大量探索。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),鈦、鉭、鈮是合適的基體材料,這三種金屬不但耐腐蝕性強(qiáng),而且是閥性金屬,閥性金屬具有單向載流的性質(zhì),在一定的電位下,它們的表面可以形成一層氧化膜,這樣把鉑復(fù)合在這些基體上,在通陽極電流時(shí),即使基體有孔,在孔處也不會(huì)發(fā)生腐蝕,因?yàn)橛锌椎幕w處將自動(dòng)的產(chǎn)生氧化膜。

鉑電極制作方法有水溶液電鍍,熔鹽電鍍,冶金復(fù)合,磁控濺射,化學(xué)氣相沉積等,鉑復(fù)合電極被廣泛應(yīng)用于陰極保護(hù),金屬電沉積,離子水生產(chǎn),藥品的電化學(xué)合成等方面。

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